Canon betreedt de Concurrentiemarkt van Chipfabricage

De aankondiging van de eerste nanoimprint machine markeert een opmerkelijke mijlpaal in de technologische wereld en is afkomstig van het gerenommeerde bedrijf Canon. Deze state-of-the-art machine is in staat om 5nm-chips te produceren, waarmee het geavanceerde chipproductieprocessen mogelijk maakt. Het Japanse technologiebedrijf streeft ernaar te concurreren met de gevestigde ASML’s EUV-machines. In dit artikel lees je meer over de revolutionaire nanoimprint machine en wordt er licht geworpen op de voor- en nadelen ervan.

Nieuwe technologieën

De nanoimprint machine hanteert een baanbrekende aanpak die aanzienlijk verschilt van de traditionele methoden voor chipproductie. In de reguliere chipfabricage maakt men doorgaans gebruik van fotolithografie, waarbij patronen op een wafer worden geprojecteerd. Het projecteren van patronen op de wafer gebeurt door middel van licht, en het gebruik van lichtgevoelige resistlagen speelt hierbij een cruciale rol. Echter, wat de nanoimprint machine zo revolutionair maakt, is het feit dat licht volledig wordt uitgesloten uit het proces. In plaats van licht en fotolithografie, maakt de nanoimprint machine gebruik van een soort stempelmechanisme om patronen direct op de wafer te projecteren.

Gebruikte master grootste invloed

Aangezien de nanoimprint machine geen gebruik maakt van licht, hangt de grootte van de geproduceerde transistors rechtstreeks af van de precisie van het gebruikte masker voor het patroon. Hierbij spelen factoren zoals de golflengte van het licht en de numerieke apertuur geen rol, in tegenstelling tot bij fotolithografie. Momenteel zijn de bestaande maskers in staat om een lijnbreedte van 14nm te produceren. Volgens Canon komt deze lijnbreedte overeen met een 5nm-proces. Canon kijkt met verwachting uit naar verdere verbeteringen in de toekomst van het nanoimprint systeem, waarbij de machine naar verwachting in staat zal zijn om te produceren op nodes van slechts 2nm.

Canon betreedt de concurrentiemarkt

Om geavanceerde chips te produceren is momenteel EUV-lithografie essentieel. Het gebruik van lithografie vereist dergelijke geavanceerde systemen, die momenteel exclusief worden vervaardigd door het bedrijf Veldhovense ASML. Het meest recente nanoimprint systeem markeert de eerste stap van Canon in de wereld van geavanceerde chipproductie. Met de introductie van deze machine betreedt Canon de competitieve markt van geavanceerde chipfabricage. Deze belangrijke stap opent de deuren naar nieuwe mogelijkheden.

Ontdek de toekomst van productie

Nanoimprints overtreffen niet alleen fotolithografie in termen van verbeteringen, maar blinken ook uit in kostenefficiëntie. Deze efficiëntie wordt bereikt doordat er aanzienlijk minder stappen nodig zijn om het uiteindelijke product te creëren. Bovendien levert nanoimprint technologie complexe circuits met minimale energieconsumptie, zonder de noodzaak voor herhaalde belichtingen. Dit gebrek aan noodzaak resulteert in indrukwekkende besparingen en bevordert duurzaamheid.

De keerzijde van nanoimprint

Terwijl nanoimprint technologie onbetwiste voordelen biedt, zijn er ook valkuilen om rekening mee te houden. Een potentieel struikelblok is de gevoeligheid van de machine voor defecten. Deze wordt veroorzaakt door fijne stofdeeltjes die tussen het masker en de wafer kunnen komen. Minuscule boosdoeners kunnen leiden tot afdrukfouten en zelfs apparatuur defecten. Gelukkig heeft Canon een ingenieus systeem ontwikkeld om deze nadelen te omzeilen en de aanwezigheid van stofdeeltjes tot een minimum te beperken. Dit systeem zorgt bovendien voor een precieze uitlijning van het masker, een cruciaal aspect bij het vervaardigen van foutloze chips met meerdere lagen.